主要功能
多种镀膜制备：为精密光学元件、高精密光通讯产品镀制光学膜，包括金属膜、激光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片（紫、红外截止膜）、高反膜等。
主要技术指标
1. 极限真空：8×10-5Pa；
2. 测定波长范围：400nm~1700nm；
3. 半高宽：7nm；
4. 持续稳定运行时间：15h；
5. 脉动含有率：＜5%；
6. 工作真空范围：5.0×10-5Pa~7.0×10-2Pa。
主要应用领域
高真空镀膜机是一种用于材料科学、电子与通信技术领域的科学仪器，被广泛应用于半导体、光学、汽车及先进材料等领域的薄膜制备与科研。
致力于打造国家级高端光电装备产业高地
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