主要功能
本设备用于各类单层、多层膜的膜层厚度d、折射率n、消光系数K等参数的测量和分析。可定制化Mapping绘制化测量。
主要技术指标
光谱范围：210-1650 nm
光谱分辨率：<0.8nm（UV-VIS），<3.5nm（1000-1650nm）
光源：氘灯和钨灯
测试精度：褪偏精度优于±0.5%
测量角度：45-90°，全自动变角（重复精度优于0.02°）
主要应用领域
在半导体、平板显示、光伏器件、功能性涂料、生物和化学工程等行业中，可用于表征各种薄膜材料，包括介电薄膜、半导体、有机物、金属、超材料和纳米材料等。
致力于打造国家级高端光电装备产业高地
关注公众号
浙公网安备XXXXXXX号