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主要功能

本设备用于各类单层、多层膜的膜层厚度d、折射率n、消光系数k等参数的测量和分析。可定制化Mapping绘制化测量。

主要技术指标

1. 光谱范围：210nm~1650nm；

2. 光谱分辨率：<0.8nm（UV-VIS），<3.5nm（1000nm~1650nm）；

3. 光源：氘灯和钨灯；

4. 测试精度：褪偏精度优于±0.5%；

5. 测量角度：45°~90°，全自动变角（重复精度优于0.02°）。

主要应用领域

在半导体、平板显示、光伏器件、功能性涂料、生物和化学工程等行业中，可用于表征各种薄膜材料，包括介电薄膜、半导体、有机物、金属、超材料和纳米材料等。