台州光电产业创新中心

应用领域

激光微纳曝光项目主要围绕微纳器件、掩模版、光子芯片等器件的实际需求和重要发展领域通过发展新型刻写理论和方法，研发具有明确市场方向和竞争力的激光微纳曝光设备和软件，牵引部分关键组件的研发和产业化，并建立一支具备光、机、电、算综合研发能力及系统集成和工艺测试能力的高端装备研发队伍，促进创新性成果的转化和技术进步。

核心技术

1. 高速365nm紫外脉冲激光器：配合相应制程热模光刻胶需求，为高功率激光扫描刻写提供稳定的长寿命光源，实现高分辨率图形曝光；

2. 高精度刻写镜头研制技术：同时具备大数值孔径(NA0.9)、超低畸变等特点，像差达到衍射极限，充分发挥紫外光刻写能力，适应高精度刻写曝光要求；

3. 整机设计和集成技术：开展整机光机电一体化设计、高精度控制、图形处理软件、系统装调等研究，开展高可维护性、高稳定性、高适用性等单元技术研究，提高产品竞争力，满足设备产业化发展需求。