主要功能
本设备适用于各类光学薄膜和光学元器件表面和体内吸收率的检测和分析。
主要技术指标
检测方式：透射式、反射式
扫描最大样品尺寸：≥100*100mm
检测灵敏度：≤10ppb
检测波长：532nm、1064nm
横向空间分辨率：≤20µm@532nm
单点测量时间：≤300ms
扫描方式：二维扫描
主要应用领域
可应用于光学、晶体材料吸收、光学薄膜吸收、表面缺陷分析（如抛光、镀膜工艺辅助改善、胶合/键合质量分析）等。
致力于打造国家级高端光电装备产业高地
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